R2R Nanoimprint-Lithografie
Großflächige Mikro- und Nanostrukturierung
Unsere Rolle-zu-Rolle Nanoimprint-Lithografie (Roll-to-Roll-NIL, R2R-NIL) ermöglicht eine kontinuierliche und daher kostengünstige Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf großflächigen Foliensubstraten für Anwendungen in Hochtechnologiebereichen wie Elektronik, Optoelektronik, Photovoltaik, Sensorik, Mikrofluidik, Folienveredelung und Verpackung, sowie Pharmazeutik und Biowissenschaften.
R2R-NIL stellt eine evolutionäre Weiterentwicklung der in den 1990er Jahren eingeführten und mit einem diskontinuierlichen Prägeprozess (Stempelprozess) arbeitenden Nanoimprint-Lithografie (NIL) dar.
Unsere R2R-NIL-Aktivitäten stellen ein Kernthema der Forschungsgruppe Hybridelektronik und Strukturierung (Leitung: Barbara Stadlober) dar.
Nano-Strukturen in Rolle-zu-Rolle
Die R2R-Pilotanlage ermöglicht uns:
- die umweltverträgliche Herstellung hochaufgelöster leitender Strukturelemente für die organische Elektronik (feine Leiterbahnen, nanoskalige Elektroden für organische Transistoren)
- die präzise Erzeugung optischer 2.5D-Strukturen für das Management von Licht in Folien (Ein- und Auskopplung, Lichtleitung) für Anwendungen in der Photonik
- die großflächige Realisierung von strukturierten bionischen Oberflächen und komplexen Nanostrukturen, die Effekte aus der Biologie technisch nutzbar machen (Haifischhaut zur Strömungsreibungsreduktion, Lotuseffekt zur Schmutzabwehr und Selbstreinigung, Geckoeffekt zur klebstofffreien Adhäsions, Mottenaugen zur Antireflexion und Strukturfarben zur farbstofffreien Dekoration)
- die kostengünstige Fertigung von komplexen mikrofluidischen Elementen in Folie als Basis von Biosensoren für Lab-on-Foil Analysesysteme
- die kontinuierliche Produktion von veredelten High-Tech-Folienoberflächen für Verpackung, Dekor, Sicherheit und Etikettierung, die durch Mikro- und Nanostruktureffekte verbesserte optische, mechanische und chemische Eigenschaften aufweisen.
Details und Lösungen
ORF Wissenswert vom 8. Jänner 2018
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