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R2R NANOIMPRINT-LITHOGRAFIE

Großflächige Mikro- und Nanostrukturierung

R2R-Nanoimprint-Anlage bei JOANNEUM RESEARCH Materials

Unsere Rolle-zu-Rolle Nanoimprint-Lithografie (Roll-to-Roll-NIL, R2R-NIL) ermöglicht eine kontinuierliche und daher kostengünstige Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf großflächigen Foliensubstraten für Anwendungen in Hochtechnologiebereichen wie Elektronik, Optoelektronik, Photovoltaik, Sensorik, Folienveredelung und Verpackung, sowie Pharmazeutik und Biowissenschaften.

R2R-NIL stellt eine evolutionäre Weiterentwicklung der in den 1990er Jahren eingeführten und mit einem diskontinuierlichen Prägeprozess (Stempelprozess) arbeitenden Nanoimprint-Lithografie (NIL) dar.

Unsere R2R-NIL-Aktivitäten stellen ein Kernthema der Forschungsgruppe Mikro- und Nanostrukturierung (Leitung: Barbara Stadlober) dar.

3D-Nano-Strukturen in Rolle-zu-Rolle

DIE R2R-PILOTANLAGE ERMÖGLICHT UNS:

  • die umweltverträgliche Herstellung hochaufgelöster leitender Strukturelemente für die organische Elektronik (feine Leiterbahnen, nanoskalige Elektroden für organische Transistoren)
  • die präzise Erzeugung optischer 2.5D-Strukturen für das Management von Licht in Folien (Ein- und Auskopplung, Lichtleitung) für Anwendungen in der Photonik
  • die großflächige Realisierung von 3D-strukturierten bionischen Oberflächen und komplexen Nanostrukturen, die Effekte aus der Biologie technisch nutzbar machen (Haifischhaut, Lotuseffekt, Geckoeffekt, Strukturfarben)
  • die kostengünstige Fertigung von komplexen mikrofluidischen Elementen in Folie als Basis von Biosensoren für Lab-on-Foil Analysesysteme
  • die kontinuierliche Produktion von veredelten High-Tech-Folienoberflächen für Verpackung, Dekor, Sicherheit und Etikettierung, die durch Mikro- und Nanostruktureffekte verbesserte optische, mechanische und chemische Eigenschaften aufweisen.
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