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Essenziell
 
Elektronenmikroskop

Elektronenstrahl-Lithografie

Bei der Elektronenstrahl-Lithografie wird ein elektronenstrahlempfindlicher Lack belichtet und strukturiert.

  • Höchstauflösende, extrem flexible Technik
  • Strukturen werden indirekt (Masken) oder direkt mit dem Elektronenstrahl geschrieben
  • Bei der Belichtung wird der Elektronenstrahl durch elektrische und magnetische Felder auf die Probenoberfläche fokussiert und positioniert und trifft auf eine Lackoberfläche.
  • Wegen der seriellen Belichtung: kostenintensiv, komplex, nur für geringste Durchsätze durchführbar
Transistor, welcher mittels Elektronenstrahl-Lithografie hergestellt worden ist (REM-Aufnahme)

Transistor, welcher mittels Elektronenstrahl-Lithografie hergestellt worden ist (REM-Aufnahme)

Oberflächenmorphologie mittels Rasterelektronenmikrospkopie (REM)

Beim Rasterelektronenmikroskop (REM) wird ein Elektronenstrahl in einem bestimmten Muster über das vergrößert abzubildende Objekt geführt. Durch die Wechselwirkungen der Elektronen mit dem Objekt wird ein Bild des Objekts mit hoher Schärfentiefe, erzeugt.

Aufnahme einer Kieselalge mittels Rasterelektronenmikrospkopie

Aufnahme einer Kieselalge mittels Rasterelektronenmikrospkopie

Haischuppen REM Aufnahme

Haischuppen (REM Aufnahme)