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Essenziell
 

Nanoimprint-Lithografie im Batchprozess (bis 4 x 4 inch²) unter Reinraumbedingungen (UV-NIL und Hot-Embossing NIL)

Nanoimprint-Lithographie bezeichnet die Herstellung mikro- oder nanostrukturierter Oberflächen mittels eines entsprechenden Prägeverfahrens. Mit dieser Technik können entweder thermoplastische Polymermaterialien verarbeitet werden (hot embossing) oder UV-härtende Präpolymere zum Einsatz kommen (UV-NIL).

Stempel

Stempel

Erste Abformung mittels Nanoimprint-Lithografie im Batchprozess

Erste Abformung mittels Nanoimprint-Lithografie im Batchprozess

Zweite Abformung mittels Nanoimprint-Lithografie im Batchprozess

Zweite Abformung mittels Nanoimprint-Lithografie im Batchprozess