Materials

Pulsed laser deposition: Hartstoffschichten für innovative Anwendungen

Publikation aus Materials

Lackner J.M., Waldhauser W., Ebner R., Lenz W., Mroz W.

Galvanotechnik 94 (5), pp. 1226-1232, 2003

Abstract:

Das Verfahren der „Pulsed Laser Deposition“ (PLD) wird der Gruppe der physikalischen Gasphasen-Beschichtungsverfahren (Physical Vapour Deposition, PVD) zugeordnet und stellt heute eine Beschichtungstechnologie dar, die vorwiegend im Labormaßstab eingesetzt wird. Trotz ihrer außergewöhnlichen Prozesseigenschaften hat die PLD bis heute noch nicht am Markt der industriellen Beschichtungsverfahren Fuß gefasst, was vor allem auf das Fehlen von PLD-Beschichtungsanlagen mit ausreichend großen Beschichtungskammern und hohen Beschichtungsraten zurückzuführen ist. Um dieses Problem zu lösen und somit für die PLD als industrielles Beschichtungsverfahren Interesse zu wecken, wurde am Laserzentrum Leoben der JOANNEUM RESEARCH Forschungsgesellschaft mbH, Österreich, ein PLD-Beschichtungssystem konzipiert und gebaut, das die Beschichtung von industriellen Bauteilen ermöglicht. Die vorliegende Arbeit soll das PLD-Verfahren mit anderen PVD-Prozessen vergleichen und die wichtigsten Merkmale des PLD-Prozesses aufzeigen. Einige Beispiele für die Abscheidung von Hartstoffschichten (TiN, TiOx, TiAlN, TiAlCN, DLC) auf verschiedensten Substratmaterialien unterstreichen das hervorragende Eigenschaftsspektrum von PLD-Dünnschichten.

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