Das Labor umfasst flexible, schnelle Prototyping-Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Strukturen in einer breiten Palette von Materialien.
Laseranlage (credit: JOANNEUM RESEARCH / Bergmann
Unser Labor umfasst verschiedene Laser-Systeme mit unterschiedlichen Spezifikationen: Ultrakurzpuls-Laser mit einstellbaren Pulsdauern im Bereich von 210 fs – 9 ps und variabler Puls-Wiederholungsrate. Sie bieten fortschrittliche Funktionen und Flexibilität für verschiedene Forschungsanwendungen im Bereich der Laser-Mikrobearbeitung und Femtosekunden-Laser-Lithographie.
SPIRIT HE 30-SHG Laser (Spectra Physics)
CARBIDE Light Conversion Laser
Edge Wave PX-200 Laser (Pikosekunden-Laser)
Die Laser sind mit fortschrittlichen Positionierungssystemen und Scanlösungen kombiniert. Zur Verfügung stehen Ultra-Präzisions-Linearmotor-Achsen von Newport und Aerotech, die eine präzise Positionierung bei Scan-Geschwindigkeiten bis maximal 300 mm/s, auf Arbeitsfeldern mit einer maximalen Größe von 215 mm x 215 mm erlauben. Des Weiteren verfügen wir über mehrere Galvo-Scanner von Scanlab, die schnelle und präzise Scanbewegungen, mit Scan-Geschwindigkeiten von maximal 30 m/s, ermöglichen. Der SCANLAB XL Scan ermöglicht die synchronisierte Steuerung eines 2D-Scan-Kopfes und zweier mechanischer Achsen. Dieses System bietet höchste Präzision für die Mikrobearbeitung großer Oberflächen. Es bietet eine nahezu unbegrenzte Arbeitsfläche und minimiert Fehler durch Naht- bzw. Anschlussstellen zwischen den einzelnen Scanfeldern.
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Find out more about our services in the area of Ultrakurzpuls-Lasermaterialbearbeitung.
Aktuellste Infrastruktur zur Lichtmessung und Prototypenfertigung für ganzheitliches optisches und elektronisches Design – offen für Industriepartner.
Unser Labor umfasst Technologien für funktionelle Plasmabeschichtung bei niedrigen Temperaturen von Atmosphärendruck bis Fein- und Hochvakuum.
Drucktechnologien für die Entwicklung von kundenspezifischen 2D-, 2,5D- und 3D-Druckprozessen
Messungen und Analysen von kleinsten Strukturen, Schichten und Bauelementen im Mikro- und Nanomaßstab auf flexiblen Substraten.
We use a specially modified EVG770 Nanoimprint Lithography (NIL) stepper for the large-scale production of micro- and nanostructures in UV imprint resins. Together with special materials and processes, we achieve the highest precision right down to practically seamless transitions between individual structures.
Zertifizierter Reinraum der Klasse 6 für Nanostrukturen und neuartige elektronische Bauelemente und Sensoren
Microassembly Lab for photonic and electronic assemblies
Die hochpräzise maskenlose Laseranlage (MALA) ist für die Herstellung von hochkomplexen und stufenlosen Mikrooptik-Strukturen geeignet.
Wir bieten Lasermaterialbearbeitung und langjährige Expertise in Werkstoffkunde.
Modernste Entwicklungsinfrastruktur für ganzheitliches elektronisches und optisches Design inkl. EMV und ESD – offen für Industriepartner.
Unsere Rolle-zu-Rolle Nanoimprint-Lithografie ermöglicht eine kontinuierliche und daher kostengünstige Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf großflächigen Foliensubstraten für Anwendungen in Hochtechnologiebereichen wie Elektronik, Optoelektronik, Photovoltaik, Sensorik, Mikrofluidik, Folienveredelung und Verpackung, sowie Pharmazeutik und Biowissenschaften.
JOANNEUM RESEARCH provides innovation and technology services in the field of applied research. As a research company working on behalf of various federal provinces and regions in Austria, our expertise shapes the development of our modern society and economy – sustainably, and always with a focus on people. As a multidisciplinary team working in a flexible set-up that fosters innovation, we always live up to the highest social and scientific standards.