Surface Characterisation Lab

Wir setzen einen speziell modifizierten EVG770 Nanoimprint Lithography (NIL) Stepper zur großflächigen Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen in UV-Prägelacken ein. Zusammen mit speziellen Materialien und Prozessen erreichen wir dabei höchste Präzision bis zu praktisch nahtlosen Übergängen zwischen einzelnen Strukturen.

Zertifizierter Reinraum der Klasse 6 für Nanostrukturen und neuartige elektronische Bauelemente und Sensoren

Microassembly Lab für photonische und elektronische Baugruppen

Die hochpräzise maskenlose Laseranlage (MALA) ist für die Herstellung von hochkomplexen und stufenlosen Mikrooptik-Strukturen geeignet.

Das Labor umfasst flexible, schnelle Prototyping-Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Strukturen in einer breiten Palette von Materialien.

Wir bieten Lasermaterialbearbeitung und langjährige Expertise in Werkstoffkunde.

Modernste Entwicklungsinfrastruktur für ganzheitliches elektronisches und optisches Design inkl. EMV und ESD – offen für Industriepartner.

Unsere Rolle-zu-Rolle Nanoimprint-Lithografie ermöglicht eine kontinuierliche und daher kostengünstige Herstellung von Mikro- und Nanostrukturen auf großflächigen Foliensubstraten für Anwendungen in Hochtechnologiebereichen wie Elektronik, Optoelektronik, Photovoltaik, Sensorik, Mikrofluidik, Folienveredelung und Verpackung, sowie Pharmazeutik und Biowissenschaften.

Aktuellste Infrastruktur zur Lichtmessung und Prototypenfertigung für ganzheitliches optisches und elektronisches Design – offen für Industriepartner.

Unser Labor umfasst Technologien für funktionelle Plasmabeschichtung bei niedrigen Temperaturen von Atmosphärendruck bis Fein- und Hochvakuum.

Drucktechnologien für die Entwicklung von kundenspezifischen 2D-, 2,5D- und 3D-Druckprozessen